快科技10月16日消息,IBM与西门子宣布展开合作研究,推进IBM今年早些时候发布的nanostack(纳米堆叠)晶体管架构。
按照现在的路子,芯片性能靠两个方向挤:一是把晶体管做得更小,二是把它们在平面上排得更密。
前一个方向快碰到物理极限了,行业开始把重心转向第二个,既然平面没地方了,那就往垂直方向要空间。
华为提出的韬定律说的正是这件事:平面缩放撞墙之后,芯片只能靠往上堆叠来提升性能,但堆叠的代价是每加一层性能提升都伴随着成本同步上涨。
nanostack的做法是把基于纳米片的晶体管垂直堆叠起来,并且每一层横向错开排列,这样同一个指甲盖大小的面积里可以塞进接近1000亿个晶体管,这个成绩还是在当前的7埃(0.7纳米)工艺节点上跑出来的。

堆叠还解决了另一个问题,平面排列时所有晶体管只能共用一种材料,而分层之后每一层可以用不同的材料组合,性能和功耗可以各自单独优化。
今年早些时候IBM演示了nanostack架构的可行性,现在要解决的是怎么把它做到能量产、成本压得住的状态。
西门子在这块能提供的东西很具体,电子设计自动化(EDA)软件、仿真工具、光刻优化方案和先进制造软件,这些恰好是芯片从设计走到量产之间那道坎要用的东西。
这次合作的核心是建虚拟模型,芯片造出来之前先在电脑里把nanostack的物理结构建一遍模型,用来评估性能、优化设计,把制造上会遇到的难题提前暴露出来,而不是等流片(投片生产)之后才发现问题,这也解释了为什么找的是西门子而不是台积电——Siemens EDA是全球三大EDA厂商之一,芯片设计工具这块正是它的主场。

按计划,双方会把这个方法用在nanostack和它后续的世代上,一直推到超过当前的7埃节点。
不过堆叠这笔账最后谁付,是决定它能不能成真的关键,按目前的技术路线,一颗芯片上堆的层数越多,良率就越低,每一层都是一道可能出错的工序,几十层叠起来之后总良率会被反复拉低,这部分成本最终会落在芯片售价上。
再加上更先进的封装设备和更低的良率率带来的固定成本,堆叠换来的性能提升有多少能被消费者以可接受的价格拿到,目前没有答案。
这也是为什么IBM选择先和西门子做模型而不是直接宣布量产,先把成本问题算清楚,再谈产能。

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